韩国半导体材料国产化仍面临挑战
来源:林慧宇 发布时间:2025-07-04 分享至微信
据韩媒《韩国经济》报道,2019年日本对韩国实施半导体材料出口管制后,韩国开始加速推进关键材料的国产化进程。目前,韩国在光阻剂、氢氟酸和聚酰亚胺三大材料领域取得了一定成果,但在尖端制程领域,韩国依然高度依赖美国、欧洲和日本的技术与产品。

韩国的半导体生态体系为其材料国产化提供了重要支撑。以三星电子和SK海力士为核心,韩国构建了包含零组件、设备供应商以及化工、机械等相关企业的广泛供应链,整个广义半导体供应链企业数量超过700家。然而,即使在这样的生态中,韩国仍面临诸多瓶颈。

数据显示,韩国从日本进口的光阻剂比例从2018年的93.2%下降到2024年的65.4%,高纯度氢氟酸的进口规模也从1.6亿美元降至6000万美元,降幅达62.5%。这得益于东进世美肯、Samyang NC Chem和SoulBrain等韩国材料制造商的努力。然而,在7纳米以下制程中,EUV光阻剂市场仍由日本企业占据97%的份额,设备领域如EUV曝光机则被荷兰ASML垄断。

此外,化学机械研磨剂、EUV光罩等核心材料的国产化进展也较为缓慢,韩国在这些领域的进口依赖度仍超过90%。尽管KC Tech和S&S Tech等企业正在积极研发,但技术差距依然明显。

业界人士指出,韩国过去的研发项目多集中于成功率较高的领域,而对于高风险的关键材料研发投入不足。专家建议,政府应牵头加大对这些领域的支持力度,以推动半导体产业的进一步自主化。

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