台积电发布A14制程与多项新技术,计划2028年量产1.4纳米
来源:林慧宇 发布时间:2025-04-27 分享至微信
4月23日,台积电在2025北美技术论坛上公布了其最新的半导体技术路线图,展示了涵盖人工智能(AI)、高性能计算(HPC)以及先进封装等领域的多项突破性技术。

据媒体报道,台积电在论坛上宣布其N3P制程已进入量产阶段,而备受关注的A14制程技术预计将在2028年实现量产。A14是台积电规划的1.4纳米级先进制程,采用第二代全环绕栅极场效应晶体管(GAAFET)技术,相较于现有的3纳米和即将量产的2纳米制程,性能和能效均有显著提升。

A14制程性能大幅提升,聚焦AI与HPC应用

A14制程技术是台积电下一代先进逻辑制程的核心,旨在通过优化栅极结构和沟道密度,实现更高的电流控制能力。与N2制程相比,在相同功耗下,A14速度可提升15%,或在相同速度下降低高达30%的功耗,同时逻辑密度提升20%以上。此外,台积电计划将NanoFlex™标准单元架构升级为NanoFlex™Pro,以进一步提升设计灵活性。

A14制程主要面向AI、HPC及高端移动设备,支持更复杂的AI模型运算和低延迟数据处理。台积电透露,A14的研发进展顺利,良率已提前实现,后续还将推出衍生版本,包括A14P、A14X和A14C,分别满足高性能、极致优化和成本敏感型需求。

N3家族持续扩展,N3P与N3X相继量产

台积电在论坛上还介绍了其3纳米制程家族的最新进展。N3P作为第三代3纳米技术,已在2024年第四季度启动量产,主要服务于需要提升效能的客户端和数据中心应用。与N3E相比,N3P在同等功耗下性能提升约5%,或在相同性能下功耗降低5~10%,晶体管密度提升4%。

此外,台积电计划在2025年下半年量产N3X制程。据媒体报道,N3X在相同功耗下性能可再提升5%,或在相同性能下降低7%的功耗。其关键优势在于支持高达1.2V的电压,但高电压可能带来漏电功耗增加的问题,开发者需谨慎设计。

先进封装技术SoW-X计划2027年量产

台积电还发布了最新的晶圆级封装技术SoW-X(System-on-Wafer-X),这是CoWoS封装技术家族的新成员。SoW-X通过Chip-Last流程,可将多达16个大型计算芯片、存储芯片和光互连模块整合在晶圆级基板上,提供数千瓦的功率支持,目标是为AI和HPC芯片提供超高集成度和计算效率。

台积电表示,SoW-X的运算能力比现有CoWoS解决方案提升40倍,计划于2027年量产。此外,台积电还计划在同一年推出9.5倍光罩尺寸的CoWoS技术,以满足AI对逻辑和高带宽内存(HBM)的持续需求。

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