Rapidus:2纳米晶圆处理速度可达台积电3倍
来源:龙灵 发布时间:4 天前 分享至微信
据日经新闻(Nikkei)报道,日本半导体企业Rapidus在近期举行的2纳米芯片试作品展示会上透露,其晶圆处理速度可达台积电的2~3倍,同时试作品的改良速度也更快。

Rapidus能够快速完成试作品的原因主要有三点。首先,在2025年4月晶圆厂正式启用前,Rapidus已与IBM及日本当地设备制造商合作,提前完成部分运作条件的设定。其次,Rapidus与设备制造商和搬送系统厂商联手,开发出“完全单晶圆式”产线,显著提升了晶圆处理速度。第三,通过数码技术对制造过程中的数据进行全面记录,并由“深度学习自动化部”进行分析,进一步优化制程。

Rapidus推动的晶圆制造方式RUMS(Rapid and Unified Manufacturing Service),目标是以不到传统一半的工作周期完成制造。其核心在于“完全单晶圆制程”和AI控制的搬送系统。技术长石丸一成表示,完全单晶圆制程能根据每片晶圆的条件单独处理,大幅提升了制程控制的精度和弹性。同时,AI优化的搬送系统减少了装置间的等待和移动时间,为整体效率提升作出了重要贡献。

此外,Rapidus还建立了虚拟环境中的模拟系统,可以稳定地在2个月内完成晶圆制造,进一步验证了加快生产的可能性。然而,后段制程的自动化仍需加强,石丸一成表示将优先推动这一领域的发展。例如,在小芯片(Chiplet)封装中,Rapidus希望通过前后段制程一体化实现同步制造,从而缩短后段作业时间。

除了制造服务,Rapidus还积极支持IC设计,已与多家电子设计自动化(EDA)厂商、IP供应商和设计支持企业建立合作关系,未来计划进一步扩展合作网络。Rapidus希望成为串联设计、制造和封装技术的协作枢纽,构建一个完整的生态体系。

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