台积电、英特尔、三星2nm制程良率大比拼:谁更胜一筹?
来源:赵辉 发布时间:2 天前 分享至微信
据KeyBanc Capital Markets分析师John Vinh的报告显示,台积电、英特尔和三星电子在2nm制程节点的良率表现分别为65%、55%和40%。

报告显示,英特尔的Intel 18A工艺良率已从上一季度的50%提升至55%,为其计划在今年内推出Panther Lake处理器奠定了基础。英特尔代工服务预计将以65%至75%的良率进入量产阶段,这一表现将领先于三星。与此同时,台积电的N2工艺良率预计将达到75%,继续保持其技术优势。

此外,John Vinh透露,英特尔计划推出面向客户的18A-P工艺,预计于2026年下半年进入量产。若18A-P的良率能够保持稳定,英特尔在2026年的业绩有望超出市场预期。尽管有传言称英特尔可能跳过18A-P直接转向14A,但John Vinh认为这种可能性较低,因为18A-P在技术上与台积电的N2工艺具备一定竞争力。而14A工艺预计要到2027年末或2028年初才能实现量产。

相比之下,三星的SF2工艺良率目前仍停留在40%,与台积电和英特尔存在明显差距。这一现状也让业界对三星未来的技术突破充满期待。
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