台积电2nm晶圆厂进展:高雄与竹科基地同步推进
来源:赵辉 发布时间:2025-08-05 分享至微信
据台媒《自由时报》8月4日报道,晶圆代工巨头台积电在中国台湾的2nm制程布局取得重要进展。其位于高雄楠梓科学园区的第一座2nm晶圆厂(P1)已进入量产阶段,月产能预计可达1万片。与此同时,第二座2nm晶圆厂(P2)已启动设备装机,预计将在年底前试产。

供应链设备业者透露,台积电于今年3月31日在高雄举行了2nm扩产典礼,主要聚焦P2厂的上梁仪式。经过近4个月的厂房建设与无尘室工程,P2厂A区近期开始设备装机,预计3-4个月后进入试产阶段,B区也已启动厂务设施建设。P1和P2厂今年规划的设备装机总月产能可达3万片。此外,P3厂正在建设中,计划生产2nm系列的A16制程,后续还将推进P4和P5厂的建设。

在中国台湾新竹科学园区,台积电的F20厂也是2nm制程的重要生产基地。供应链消息显示,F20厂的P1厂已完成风险性试产并进入量产阶段,P2厂已建成并完成装机。预计到今年底,P1与P2厂的合计月产能将达到3万至3.5万片。正在建设中的P3和P4厂则有望切入A14制程。

目前,台积电在中国台湾已有4座2nm晶圆厂进入装机或试产阶段,每座晶圆厂的洁净室面积是行业平均水平的2倍。根据供应链估计,明年台积电2nm制程的月产能将超过6万片。

台积电公布的资料显示,其2nm制程采用全新的纳米片(Nanosheet)架构,类似于环绕栅极(GAA)晶体管技术。相比3nm制程,2nm在相同电压下可降低功耗24%至35%,或将性能提升15%,晶体管密度提升1.15倍。此前有传闻称,台积电2nm试产良率已达65%,超越英特尔18A和三星SF2,但台积电并未透露具体数据,仅表示良率表现优于预期。

尽管2nm技术门槛较高且生产复杂,台积电对其前景充满信心。2nm及其A16制程将成为下一代AI芯片的关键技术,并推出N2P、A16等强化版技术,为智能手机和高性能计算客户提供更多选择。台积电还透露,2nm在前两轮设计定案数量已超过3nm和5nm同期表现,几乎所有主要客户均参与合作。预计未来5年内,2nm将推动全球终端产品价值达到2.5万亿美元。

市场传闻称,台积电每片2nm晶圆的定价将达3万美元,比3nm高出50%,这将为台积电带来显著的营收与利润增长。
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