Tower Semiconductor与pSemi联合论文获IEEE IMS大奖
来源:万德丰 发布时间:19 小时前
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据Tower Semiconductor报道,该公司与pSemi联合发表的论文《采用PCM射频开关与集成CMOS驱动器的0-110GHz低损耗宽带SPDT设计》在2025年IEEE国际微波研讨会(IMS)行业论文竞赛中荣获大奖。论文于2025年6月19日在IMS专题会议上发表,并获得最佳论文奖。
Tower Semiconductor的相变材料(PCM)射频开关技术在射频开关领域实现重大突破,受到高度认可。该技术具有优异的性能指标组合,包括DC-110 GHz带宽、<2 dB插入损耗、30 dBm功率处理能力,以及较RFSOI CMOS解决方案提升15-20 dB的线性度。通过Tower的后端制程(BEOL)集成技术和数字控制技术,该方案实现了超低损耗宽带性能、高功率处理能力和全CMOS集成,为5G、6G、卫星通信、波束成形及毫米波应用提供了先进电路解决方案,同时简化了终端用户的实施难度。
Tower Semiconductor副总裁兼RF事业部总经理Ed Preisler博士表示:“这一成就彰显了我们推动射频前端集成技术发展的承诺,也体现了与pSemi等战略合作伙伴关系的价值。”pSemi销售与市场副总裁Rodd Novak表示:“获得IMS认可深感荣幸,这体现了我们在宽带射频开关研究与设计领域的技术追求。”
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