据报道，韩国掩模制造商S&S Tech的极紫外（EUV）空白掩模已进入三星批准使用的最后阶段。三星计划年内在韩国国内采购EUV空白掩模版，目前该公司正在实际工艺环境中测试S&S Tech的样品，以检查是否存在缺陷。最终质量评估预计将在下半年完成。

如果S&S Tech的空白掩模版通过审批，这将是韩国企业第二次实现EUV相关材料的商业化生产。此前，东进世美肯（Dongjin Semichem）已成功生产EUV光刻胶（PR）。消息人士透露，三星半导体光刻团队希望通过增加S&S Tech作为供应商，减少对日本豪雅（Hoya）的依赖，以确保供应稳定并降低成本。

目前，三星所用的EUV空白掩模版大多从豪雅采购。然而，由于日本地震等不可控因素，三星多次面临采购延迟的问题。为缓解这一情况，豪雅已在新加坡建设新工厂。

此外，S&S Tech于2024年12月向日本Lasertec公司订购了EUV掩模检测设备，每台售价高达417亿韩元。由于Lasertec订单积压，三星介入并要求其优先处理S&S Tech的订单。预计该设备将于10月运抵S&S Tech位于龙仁的新工厂。

EUV空白掩模版每片成本高达数万美元。三星认为，实现部分EUV掩模版的本土化采购，不仅可节省数千万美元成本，还能显著缩短交货时间。