碳化硅技术新突破:基本半导体与英飞凌齐发力
来源:陈超月 发布时间:2025-05-07
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英飞凌引入SiC超结技术,扩展CoolSiC产品线
据英飞凌5月6日宣布,其CoolSiC产品线正式引入基于沟槽的碳化硅超结技术(TSJ),将电压覆盖范围扩展至400V至3.3kV。这一技术升级结合了沟槽栅极结构与超结电荷平衡原理,延续了英飞凌在硅基超结技术(CoolMOS)领域的技术积淀,实现了器件性能和能效的显著提升。
英飞凌表示,此次技术扩展将涵盖分立器件、模制和基于框架的模块以及裸片,全面覆盖汽车电驱动、电动汽车充电、光伏逆变、储能系统及工业牵引等核心领域。这将为汽车和工业领域提供更加多样化的产品选择,满足不同场景的应用需求。
基本半导体发布新一代碳化硅MOSFET
同日,基本半导体官微宣布推出新一代碳化硅MOSFET系列新品。该产品矩阵覆盖车规级和工业级多场景需求,包括面向车用主驱领域的1200V/13.5mΩ、750V/10.5mΩ系列,面向光伏储能的1200V/40mΩ系列,以及面向AI算力电源和户储逆变器的650V/40mΩ系列。
据基本半导体介绍,650V/40mΩ系列产品通过将元胞间距微缩至4.0μm,在低电压等级下实现了更高的性能表现。这一系列新品将显著提升终端应用的系统效率和高温性能,降低能量损耗,助力新能源领域实现更高效、更经济的功率器件解决方案。

图源:基本半导体(图为新一代碳化硅MOSFET参数列表)
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