据彭博社报道，美国华府独立智库安全与新兴技术中心（CSET）的数据显示，中国在半导体微影技术领域的发展面临严峻挑战，这成为其实现科技自主化的重要阻碍。CSET经常为美国政府各部门提供政策建议和研究参考。

数据显示，作为中国在微影技术领域的领先企业，上海微电子在较旧时代的微影技术市场中仅占据约4%的份额。尽管中国企业在芯片制造设备领域已取得显著进展，某些技术甚至达到与日本相当的水平，但在先进微影技术方面，上海微电子与荷兰ASML和日本尼康仍有巨大差距。

研究人员指出，微影技术是中国半导体发展的关键瓶颈。受美国主导的出口管制影响，ASML无法向中国提供最先进的极紫外光（EUV）微影系统。虽然华为在2023年曾展示由中国本土制造的7纳米芯片，令外界震惊，但因缺乏先进微影设备，这一进展很快陷入停滞。该芯片由中芯国际协助生产，但也未能突破技术限制。