近日，韩国半导体极紫外光（EUV）设备公司ESOL完成规模达740亿韩元（约合5,410万美元）的B轮融资。据韩媒《首尔经济》援引相关消息，此次融资吸引了包括韩国产业银行、InterVest、未来资产金融集团（Mirae Asset Financial Group）、元大Investment、DSC Investment等十余家机构的参与。

作为全球第4家具备独立开发EUV光源能力的企业，ESOL计划将这笔资金用于韩国京畿道东滩晶圆厂的扩建，并推动光学零件的国产化。其核心目标是实现包括镜面光学系统在内的关键零部件的自主研发与生产，而非仅仅依赖外部供应。

ESOL的创办团队汇聚了来自三星电子、ASML、科磊科技（KLA）、韩国浦项工科大学等顶尖机构的专业人才。公司代表金炳国（音译）曾在三星电子半导体研究所任职超过20年，被誉为韩国顶尖的曝光技术专家，而CTO李东根（音译）则是EUV领域的资深专家。这种高度专业化的人才组合，为ESOL的技术突破奠定了坚实基础。

EUV微影制程是半导体制造迈向更先进制程的关键环节，目前全球市场由荷兰ASML主导。然而，ASML的EUV曝光机依赖于一系列高精度检测设备的支持，例如德国蔡司的投影光学技术和日本Lasertec的光罩检测设备。这种封闭生态体系对行业新进入者构成了极高的门槛。

在此背景下，ESOL凭借其已商用化的光罩检测设备“SREM”成功切入市场。该设备用于光罩制程的最终检测，能够挑战蔡司在核心光学技术领域的主导地位。此外，ESOL正在开发新一代设备“FREM”，其生产效率和性能预计将实现革命性突破。一旦商业化成功，不仅韩国本土晶圆代工厂将受益，全球客户也有望积极响应。

ESOL的另一款主力产品——护膜（pellicle）透光率检测设备，与韩国材料制造商FST形成高度协同效应，进一步增强了其市场竞争力。分析人士指出，ESOL在EUV光源技术上的突破，对韩国半导体产业意义重大。其垂直整合能力和扩张潜力，或将成为未来成长的重要驱动力。